自清潔聲屏障光催化涂層技術(shù)主要基于納 米級光催化材料在光照條件下產(chǎn)生的強氧化性自 由基，能有 效分 解有 機污染物和殺滅微生物‌。該技術(shù)通過以下機制實現(xiàn)雙重功效：

   ‌降噪功能‌：特殊表面結(jié)構(gòu)設(shè)計可改變聲波反射路徑，多 維降噪聲屏障降噪效果達(dá)13分貝以上‌

‌   自清潔功能‌：光催化反應(yīng)分 解表面有 機物，保持涂層長期清潔‌。文章來源聲屏障http://www.prattandsmith.com/。‌